规格：
类型：
产品介绍：
RLK900高分辨率XAFS/XES光谱仪，是目前国际最先进的新型XAFS/XES光谱仪。RLK900居于新原理和新结构；采用独有的、zhuanli的SBCA晶体，实现X射线的单色扫描；采用小功率的X-Ray源，使研究试验室内就能够方便运行。
RLK900高分辨率XAFS/XES光谱仪，可以完成XAS(X-ray Absorbtion SpectroScopy)和XES(X-ray Emmision Spectroscopy)两种光谱的研究，能够获得扫描范围5keV-12keV，分辨率优于1eV的谱线。
RLK900高分辨率XAFS/XES光谱仪，将信号探测、扫描控制、数据显示高度集成化，使用前只需简单的参数设置、校准确认，即可方便进行研究试验。
RLK900高分辨率XAFS/XES光谱仪，作为一种目前国际最新型的仪器，为各种材料研究分析拓展手段，用户能够在实验室就能随时开展研究，而不再受到条件限制。可广泛应用于各种材料研究分析领域，包括纳米材料、半导体材料、催化材料、生物材料、军用特种材料、矿产分析等。将成为材料研究必选设备。
产品特点：
1. 新原理新构造：居于新原理和新构造的X-ray光谱仪
2.高分辨率：采用独有的、zhuanli的SBCA晶体作为核心器件，实现X射线单色扫描，分辨率达到1eV
3. 高品质能谱曲线：与同步辐射相当品质的能谱曲线
4. 试验室仪器：在试验室就可完成XAFS/XES的研究，不再受到条件限制
5. 高集成性：仪器集成探测、控制、分析，软件运行于Windows操作系统
6. 应用面广：纳米材料、半导体材料、催化材料、生物材料、军用特种材料、矿产分析等各种材料研究分析领域
技术指标：
型号 | RLK900 高分辨率XAFS/XES光谱仪 |
原理 | SBCA晶体、Roland圆、X-ray单色扫描 |
能量范围 | 5KeV-12KeV |
能量分辨率 | 0.5-1.5eV |
工作模式 | XAS/XES |
布拉格角范围 | 65°-85° |
X射线源 | 10W（Max）50KV@200uA(X 光点直径～0.5mm) |
光学系统 | SBCA单色分光、Roland圆Bragg扫描(Roland 直径500mm) |
探测器 | 半导体电制冷SDD |
通讯接口 | RS-232 |
工作温度 | -10℃ ~ +50℃ |
外形尺寸 | 1200(L)*1200(W)*1100(H) |
重量 | 350Kg |
软件 | RLK900专用软件(WindowsXP/Windows 7) |